半球谐振子金属化涂层是半球谐振陀螺制造业的重要工艺环节。过程所生产的残余应力对谐振子Q值有着巨大的影响，并决定了半球谐振陀螺、零偏稳定性和其他国家的最终性能。本文利用X射线衍射法测量了薄膜残余应力，研究了涂层工艺参数和薄膜厚度对残余应力的影响。结果表明，薄膜残余应力处于压应力状态。随着沉积速率的增加，薄膜应力先增大后减小，并趋于减小。随着膜厚的增加，膜应力先减小后增大。基板温度对残余应力的影响规律不明显。本文的研究对电影残余应力和谐振子Q值关系模型的建立具有重要的指导意义。